{"id":461317,"date":"2023-10-15T16:39:38","date_gmt":"2023-10-15T14:39:38","guid":{"rendered":"https:\/\/innovationorigins.com\/?p=461317"},"modified":"2023-10-15T16:39:38","modified_gmt":"2023-10-15T14:39:38","slug":"das-nano-imprint-lithografiesystem-von-canon-kann-die-halbleiterindustrie-befluegeln-ist-aber-kein-konkurrenzprodukt-fuer-asml","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/de\/das-nano-imprint-lithografiesystem-von-canon-kann-die-halbleiterindustrie-befluegeln-ist-aber-kein-konkurrenzprodukt-fuer-asml\/","title":{"rendered":"Das Nano-Imprint-Lithografiesystem von Canon kann die Halbleiterindustrie befl\u00fcgeln, ist aber kein Konkurrenzprodukt f\u00fcr ASML"},"content":{"rendered":"\n

Canon, bekannt f\u00fcr seine Kameras, schl\u00e4gt mit seinem neu eingef\u00fchrten Nanoimprint-Lithografiesystem FPA-1200NZ2C Wellen in der Halbleiterindustrie. Diese innovative Technologie wird in vielen Medien<\/a> als potenzieller Wegbereiter bezeichnet, der “die Vorherrschaft der optischen Lithografie in Frage stellt und hohe Aufl\u00f6sung, Kosteneffizienz und Anpassungsf\u00e4higkeit in der sich st\u00e4ndig weiterentwickelnden Halbleiterfertigung bietet”. Trotz der geringeren Geschwindigkeit und gewisser Einschr\u00e4nkungen sind die Ger\u00e4te von Canon vielversprechend f\u00fcr bestimmte Anwendungen wie 3D-NAND-Speicher, Photonik, Biochips und Mikrofluidik. Um die Vorherrschaft von ASML in der Branche zu gef\u00e4hrden, ist jedoch mehr erforderlich.<\/p>\n\n\n\n

F\u00e4higkeiten<\/h2>\n\n\n\n

Werfen wir zun\u00e4chst einen Blick auf die F\u00e4higkeiten des Unternehmens, wie sie von Canon selbst<\/a> angek\u00fcndigt wurden. Mit der F\u00e4higkeit zur Herstellung von Halbleitern, die einem 5nm-Prozess entsprechen und so klein wie 2nm sind, \u00fcbertrifft es die F\u00e4higkeiten der Maschinen von ASML. Dar\u00fcber hinaus reduziert das System von Canon den Stromverbrauch, was zur CO2-Reduzierung beitr\u00e4gt und der wachsenden Nachfrage nach energieeffizienter Technologie entgegenkommt. Diese Entwicklung signalisiert den strategischen Wechsel von Canon in die Halbleiterlieferkette.<\/p>\n\n\n\n

Im Gegensatz zu herk\u00f6mmlichen Fotolithografie-Anlagen, die ein Schaltkreismuster durch Projektion auf den mit Resist beschichteten Wafer \u00fcbertragen, wird bei dem neuen Produkt eine mit dem Schaltkreismuster bedruckte Maske wie ein Stempel auf den Wafer gedr\u00fcckt, so Canon. “Da die \u00dcbertragung des Schaltkreismusters nicht \u00fcber einen optischen Mechanismus erfolgt, k\u00f6nnen feine Schaltkreismuster auf der Maske originalgetreu auf dem Wafer reproduziert werden. Auf diese Weise k\u00f6nnen komplexe zwei- oder dreidimensionale Schaltkreismuster in einem einzigen Abdruck erstellt werden, was die Betriebskosten senken kann.”<\/p>\n\n\n\n

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Spectroscopic Elements, optische Elemente mit dreidimensionaler Mikrostruktur, hergestellt mit dem NIL-Verfahren, \u00a9 Canon<\/figcaption><\/figure>\n\n\n\n

Der Einstieg von Canon in die Halbleiterindustrie folgt auf die \u00dcbernahme<\/a> von Molecular Imprints Inc. ein Unternehmen, das sich auf die Weiterentwicklung der Nanoimprint-Lithografie-Technologie konzentriert. Diese strategische Akquisition st\u00e4rkt das technologische Arsenal von Canon und erm\u00f6glicht es dem Unternehmen, ein System zu entwickeln, das mit den Branchenf\u00fchrern ASML und Nikon konkurrieren kann.<\/p>\n\n\n\n

Eine Bedrohung f\u00fcr die optische Lithografie? Vielleicht nicht so sehr<\/h2>\n\n\n\n

Die Einf\u00fchrung der Nanoimprint-Lithografie (NIL) durch Canon wird weithin als potenzielle Bedrohung f\u00fcr die Vorherrschaft der optischen Lithografie in der Halbleiterindustrie angesehen<\/a>. Aber ist sie das? Nicht wirklich, schreibt Sander Hofman von ASML in seinem w\u00f6chentlichen Newsletter Always Be Curious<\/a>. “Die gro\u00dfen Nachteile sind, dass dieser mechanische Herstellungsprozess langsam ist und von Natur aus Mikroverzerrungen auf dem Wafer verursacht. Dies beeintr\u00e4chtigt die Ausrichtung zwischen den nachfolgenden Schichten eines Chips und f\u00fchrt zu Defekten. Das bedeutet schlechte Chips und allgemeine Ertragsverluste bei geringerer Produktivit\u00e4t – der schlimmste Albtraum eines Chipherstellers.”<\/p>\n\n\n

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Sander at ASML | Substack<\/div>
Hi there! \ud83d\udc4b I\u2019m Sander at ASML. \ud83d\udc68\u200d\ud83d\udcbb I\u2019m a media manager with 15+ years in the chip industry. I bundle my favorite sci-tech news in my newsletter: Always Be Curious. I\u2019ve published every week since December 2019 (Revue). Substacker since Dec 2022!<\/div><\/div><\/div>\n\n\n

Bei den heutigen integrierten Schaltkreisen, die in der Regel aus Dutzenden von Schichten bestehen, die mit Nanometergenauigkeit gestapelt werden, war dies lange Zeit die gr\u00f6\u00dfte H\u00fcrde f\u00fcr die Nanoimprint-Lithografie, f\u00fcgt Hofman hinzu. “Und obwohl Canon in den letzten Jahren die Ausrichtung mit Hardware- und Software-Innovationen m\u00fchsam verbessert hat, ist die Halbleiterindustrie auf spezifische lithografische Anforderungen und Prozessabl\u00e4ufe ausgerichtet, die f\u00fcr die Massenproduktion optimiert sind, so dass es sinnvoll ist, in die bew\u00e4hrte Infrastruktur zu investieren, die Risiken, Zeit, Kosten und Komplexit\u00e4t minimiert und gleichzeitig die Produktivit\u00e4t maximiert. Die verbleibenden Herausforderungen der Nanoimprint-Lithografie bedeuten, dass sie bei der Massenproduktion der fortschrittlichsten Chips der Welt einfach keine \u00e4hnliche Rolle spielt wie die optische Lithografie.”<\/p>\n\n\n\n

Andere M\u00e4rkte<\/h2>\n\n\n\n

Canon wird sich auf andere M\u00e4rkte konzentrieren, erwartet Hofman. “Canon hat das Nanoimprint-Verfahren weiter entwickelt als je zuvor, und es wird jetzt zu einer interessanten Technologie f\u00fcr spezielle F\u00e4lle der Halbleiterherstellung, wie z. B. f\u00fcr 3D-NAND-Speicher (die weniger strenge Anforderungen an die Defektivit\u00e4t stellen und die F\u00e4higkeit des Systems nutzen, 3D-Strukturen freier zu gestalten) und f\u00fcr die Photonik (die hochaufl\u00f6sende Strukturen mit hoher Reproduzierbarkeit und Skalierbarkeit auf verschiedenen Substraten ben\u00f6tigt, ohne die Herausforderung der Ausrichtung). Und es zeichnen sich weitere neue Anwendungen ab, die von der Nanoimprint-Lithografie profitieren k\u00f6nnten, z. B. Biochips und Mikrofluidik.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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