{"id":461306,"date":"2023-10-15T14:17:41","date_gmt":"2023-10-15T12:17:41","guid":{"rendered":"https:\/\/innovationorigins.com\/?p=461306"},"modified":"2023-10-15T14:17:41","modified_gmt":"2023-10-15T12:17:41","slug":"het-nano-imprint-lithografiesysteem-van-canon-kan-de-halfgeleiderindustrie-opschudden-maar-is-nog-geen-concurrent-voor-asml","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/nl\/het-nano-imprint-lithografiesysteem-van-canon-kan-de-halfgeleiderindustrie-opschudden-maar-is-nog-geen-concurrent-voor-asml\/","title":{"rendered":"Het nano-imprint lithografiesysteem van Canon kan de halfgeleiderindustrie opschudden, maar is nog geen concurrent voor ASML"},"content":{"rendered":"\n

Canon, vooral bekend van zijn camera’s, zorgde vrijdag voor grote opschudding in de halfgeleiderindustrie met de presentatie van zijn FPA-1200NZ2C nano-imprint lithografiesysteem. Deze innovatieve technologie wordt een potenti\u00eble game-changer genoemd<\/a>, die “de dominantie van optische lithografie uitdaagt en een hoge resolutie, kosteneffici\u00ebntie en aanpasbaarheid biedt in de steeds veranderende halfgeleiderproductiearena”. Ondanks de lagere snelheid en bepaalde beperkingen is Canon’s apparatuur veelbelovend in specifieke toepassingen zoals 3D NAND-geheugen, fotonica, biochips en microflu\u00efdica. Maar er is meer nodig om een bedreiging te worden voor ASML’s dominantie in de industrie.<\/p>\n\n\n\n

Mogelijkheden<\/h2>\n\n\n\n

Laten we eerst eens kijken naar de mogelijkheden, zoals Canon die zelf heeft aangekondigd<\/a>. Met de mogelijkheid om halfgeleiders te maken die gelijk staan aan een 5 nm-proces en zo klein als 2 nm, overtreft het op het eerste oog de mogelijkheden van de machines van ASML. Ook verlaagt Canon’s systeem het stroomverbruik, wat bijdraagt aan CO2-reductie en aansluit bij de groeiende vraag naar energiezuinige technologie. Deze ontwikkeling laat zien Canon’s strategische verschuiving naar de toeleveringsketen van halfgeleiders zien.<\/p>\n\n\n

<\/a>
<\/div><\/div>
CEO van ASML waarschuwt voor gevolgen van migratiebeperking en restricties China<\/div>
Peter Wennink, CEO van ASML, benadrukt de noodzaak van kennismigranten en waarschuwt voor de economische gevolgen van een exportverbod naar China.<\/div><\/div><\/div>\n\n\n

In tegenstelling tot conventionele fotolithografie-apparatuur, die een circuitpatroon overbrengt door het te projecteren op de met resistentie bedekte wafer, doet het nieuwe product dit door een masker dat is bedrukt met het circuitpatroon op de resistentie als een stempel op de wafer te drukken, aldus Canon. “Omdat het overdrachtsproces van het circuitpatroon niet via een optisch mechanisme verloopt, kunnen fijne circuitpatronen op het masker natuurgetrouw worden gereproduceerd op de wafer. Zo kunnen complexe twee- of driedimensionale circuitpatronen worden gevormd in een enkele afdruk, wat de totale kosten kan verlagen.”<\/p>\n\n\n\n

\"\"
Spectroscopische elementen, optische elementen met driedimensionale microstructuur, gemaakt met NIL-proces, \u00a9 Canon<\/figcaption><\/figure>\n\n\n\n

Canon’s intrede in de halfgeleiderindustrie volgt op de acquisitie<\/a> van Molecular Imprints Inc, een bedrijf dat zich richt op het bevorderen van nano-imprint lithografie technologie. Deze strategische overname versterkt Canon’s technologische arsenaal, waardoor het bedrijf een systeem moet gaan ontwikkelen dat kan concurreren met marktleiders ASML en Nikon.<\/p>\n\n\n\n

Een bedreiging voor optische lithografie?<\/h2>\n\n\n\n

Canon’s toepassing van nano-imprint lithografie (NIL) technologie wordt alom gezien<\/a> als een potenti\u00eble bedreiging voor de dominantie van optische lithografie in de halfgeleiderproductie-industrie. Maar is dat wel zo? Niet echt, schrijft Sander Hofman van ASML in zijn wekelijkse nieuwsbrief Always Be Curious<\/a>. “De grote nadelen zijn dat dit mechanische fabricageproces langzaam is en microvertekening veroorzaakt op de wafer. Dit be\u00efnvloedt de uitlijning tussen de opeenvolgende lagen in een chip en veroorzaakt fouten. Dit betekent slechte chips en algemeen opbrengstverlies bij een lagere productiviteit, de ergste nachtmerrie van een chipmaker.”<\/p>\n\n\n

<\/a>
<\/div><\/div>
Sander at ASML | Substack<\/div>
Hi there! \ud83d\udc4b I\u2019m Sander at ASML. \ud83d\udc68\u200d\ud83d\udcbb I\u2019m a media manager with 15+ years in the chip industry. I bundle my favorite sci-tech news in my newsletter: Always Be Curious. I\u2019ve published every week since December 2019 (Revue). Substacker since Dec 2022!<\/div><\/div><\/div>\n\n\n

Hofman voegt eraan toe dat dit lange tijd de belangrijkste hindernis is geweest voor nano-imprint lithografie. “En ook al heeft Canon de afgelopen jaren de afstemming zorgvuldig verbeterd met hardware- en software-innovaties, de halfgeleiderindustrie is georganiseerd rond specifieke lithografische vereisten en processtromen die zijn geoptimaliseerd voor massaproductie, dus het is gericht op investeringen in de bewezen infrastructuur die risico’s, tijd, kosten en complexiteit minimaliseert, maar toch de productiviteit maximaliseert. De uitdagingen van nano-imprint lithografie betekenen dat het simpelweg geen vergelijkbare rol speelt als optische lithografie in de massaproductie van ‘s werelds meest geavanceerde chips.”<\/p>\n\n\n\n

Andere markten<\/h2>\n\n\n\n

Canon zal zich op andere markten richten, verwacht Hofman. “Canon heeft nano-imprint verder gebracht dan ooit tevoren, en het wordt nu een interessante technologie voor specifieke halfgeleiderproducten, zoals in 3D NAND-geheugen (dat minder hoge eisen stelt en gebruikmaakt van de mogelijkheid van het systeem om 3D-structuren vrijer te modelleren) en in fotonica (dat structuren met hoge resolutie nodig heeft met een hoge reproduceerbaarheid en schaalbaarheid op verschillende substraten, zonder de uitdaging van uitlijning). En er liggen nog meer nieuwe toepassingen in het verschiet die baat zouden kunnen hebben bij nano-imprint lithografie, zoals biochips en microflu\u00efdica.”<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

Canon, vooral bekend van zijn camera’s, zorgde vrijdag voor grote opschudding in de halfgeleiderindustrie met de presentatie van zijn FPA-1200NZ2C nano-imprint lithografiesysteem. Deze innovatieve technologie wordt een potenti\u00eble game-changer genoemd, die “de dominantie van optische lithografie uitdaagt en een hoge resolutie, kosteneffici\u00ebntie en aanpasbaarheid biedt in de steeds veranderende halfgeleiderproductiearena”. Ondanks de lagere snelheid en […]<\/p>\n","protected":false},"author":1568,"featured_media":493631,"comment_status":"open","ping_status":"closed","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"_acf_changed":false,"advgb_blocks_editor_width":"","advgb_blocks_columns_visual_guide":"","footnotes":""},"categories":[90877],"tags":[1924,122242,11853],"location":[6759],"article_type":[60583],"serie":[],"archives":[],"internal_archives":[],"reboot-archive":[],"class_list":["post-461306","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-digital-nl-nl","tag-asml-nl","tag-canon-nl","tag-chips-nl","location-nederland","article_type-analyse"],"blocksy_meta":[],"acf":{"subtitle":"De nieuwe apparatuur van Canon is veelbelovend voor specifieke toepassingen zoals 3D NAND-geheugen, fotonica, biochips en microflu\u00efdica.","text_display_homepage":false},"author_meta":{"display_name":"Bart Brouwers","author_link":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/author\/brewbart\/"},"featured_img":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-content\/uploads\/2023\/10\/Screenshot-2023-10-15-at-12.53.54.png","coauthors":[],"tax_additional":{"categories":{"linked":["Digital<\/a>"],"unlinked":["Digital<\/span>"]},"tags":{"linked":["asml<\/a>","Canon<\/a>","chips<\/a>"],"unlinked":["asml<\/span>","Canon<\/span>","chips<\/span>"]}},"comment_count":"0","relative_dates":{"created":"Posted 2 years ago","modified":"Updated 2 years ago"},"absolute_dates":{"created":"Posted on October 15, 2023","modified":"Updated on October 15, 2023"},"absolute_dates_time":{"created":"Posted on October 15, 2023 2:17 pm","modified":"Updated on October 15, 2023 2:17 pm"},"featured_img_caption":"","series_order":"","_links":{"self":[{"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/461306","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1568"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=461306"}],"version-history":[{"count":0,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/461306\/revisions"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/media\/493631"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=461306"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=461306"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=461306"},{"taxonomy":"location","embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/location?post=461306"},{"taxonomy":"article_type","embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/article_type?post=461306"},{"taxonomy":"serie","embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/serie?post=461306"},{"taxonomy":"archives","embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/archives?post=461306"},{"taxonomy":"internal_archives","embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/internal_archives?post=461306"},{"taxonomy":"reboot-archive","embeddable":true,"href":"https:\/\/ioplus.nl\/archive\/wp-json\/wp\/v2\/reboot-archive?post=461306"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}