Je ziet het niet, maar allerlei onderdelen van je smartphone zijn opgebouwd veel dunne laagjes. Neem bijvoorbeeld de microchips die miljarden transistors bevatten. Alleen zeer nauwkeurige fabricagetechnieken zoals atomic layer deposition (ALD), kunnen die minuscuul kleine componenten maken. Om die techniek ook te kunnen gebruiken om beeldschermen of bijvoorbeeld batterijen te maken, is er een upgrade nodig. <\/p>\n\n\n\n
TU\/e-onderzoekers Bart Macco en Erwin Kessels willen, in samenwerking met tal van bedrijven, deze fabricagetechniek naar dat hogere plan tillen. Hiervoor ontvingen zij een subsidie van ruim 600.000 euro uit het Open Technologieprogramma van de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek (NWO). Samen met Nederlandse bedrijven als Levitech, SoLayTec, SALD, Smit Thermal Solutions, VDL ETG, TNO, en SALDtech<\/a>, gaan de onderzoekers werken aan de fundamentele vraagstukken van de zogenoemde spatial ALD.<\/p>\n\n\n\n \u201cALD maakt het mogelijk om laagjes op een gecontroleerde manier atoomlaag voor atoomlaag te laten groeien\u201d, zegt Macco. Dat groeien gebeurt meestal in een gesloten ruimte onder vacu\u00fcm. Het oppervlak van een dragermateriaal reageert met een gas. Daardoor hechten sommige gasdeeltjes zich op het oppervlak. Niet-gehechte gasdeeltjes worden daarna verwijderd. Vervolgens komt er een ander gas bij, dat ook weer hecht. Daardoor ontstaat er een laagje van het gewenste materiaal. Door deze stappen te herhalen bouwt het laagje zich op. \u201cHet is een \u2018relatief trage\u2019 techniek, geschikt voor kleine oppervlakten waarbij de productiesnelheid niet doorslaggevend is\u201d, legt Macco uit, \u201cAls je de gassen niet steeds een voor een toevoegt, kan het veel sneller.\u201d Dat is spatial ALD. \u201cEven kort door de bocht: je bouwt laagjes op door het dragermateriaal te laten bewegen door zones met verschillende gassen die continu stromen.\u201d<\/p>\n\n\n\nGecontroleerd groeien<\/h3>\n\n\n\n